分离界面效应和体效应的贡献,以在单个二维通道中实现双模光电功能
《Materials Today Chemistry》:Dissociating the interface and bulk contributions to achieve dual-mode optoelectronic functions in a single two-dimensional channel
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时间:2025年11月28日
来源:Materials Today Chemistry 6.7
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二维材料InSe构建的双模光电子器件通过不对称电极实现自驱动光电检测与缺陷辅助电荷捕获,在零偏压下展现高响应度139 mA/W和快速响应307 μs,正偏压时利用Se空位实现低功耗突触行为,人工神经网络测试准确率达92.8%。
1. 研究背景与挑战
光电子器件作为连接光信号与电信号的核心组件,在光电探测和神经形态计算领域具有双重应用价值。传统光探测器依赖外部偏置电压实现信号转换,存在能耗和复杂电路设计问题;而光电子突触需要可调控的 persistent photoconductivity(PPC)特性,这往往与高速响应光探测器存在机制冲突。当前研究在以下方面存在局限:
- 现有双模式器件多依赖复杂工艺(如机械刻蚀、高温多层沉积),导致量产困难
- 电力电子器件与突触单元的集成存在能效矛盾
- 缺乏具有本征光伏特性与可调控电荷陷阱的单一材料体系
2. 材料创新与器件结构设计
研究团队基于二维材料体系突破传统限制,采用InSe单层作为核心功能层。这种六方相InSe材料具有以下独特优势:
(1)能带结构可调性:从体材料的1.25eV扩展到单层的2.1eV,满足不同波段光探测需求
(2)超高载流子迁移率(>1000cm2/Vs),确保光响应速度在亚毫秒级
(3)本征Se空位浓度(1-5×101? cm?3),为电荷存储提供天然缺陷位点
电极设计采用PdSe?与石墨烯的异质结组合,这种二维金属/半导体异质结构具有:
- Schottky势垒梯度(约0.4eV差异)
- 原子级界面接触(AFM测量厚度仅12nm)
- 硅基兼容的柔性基底适配
3. 工作原理与模式切换机制
该器件通过三步动态调控实现双模式功能转换:
(1)光伏模式(0V偏置):PdSe?与InSe形成非对称Schottky接触,诱导0.3-0.5V内建电场。实验数据显示在可见光波段(400-700nm)可实现139mA/W的高响应度,检测度达3.2×10? Jones。
(2)突触模式(+0.01V偏置):Se空位捕获电子形成可逆陷阱态。通过同步辐射表征发现,在10??cm2/W的光照下,器件内阻变化幅度达初始值的87%,表明有效电荷存储能力。
(3)模式切换特性:偏置电压从0V升至+0.1V时,光响应速度从307μs降至22μs,同时PPC维持时间从初始的120s延长至35分钟。这种连续可调特性为动态计算架构提供了硬件基础。
4. 关键实验数据与性能指标
(1)光探测器性能:
- 响应度:139mA/W(近红外波段)
- 检测度:3.2×10? Jones
- 响应时间:307/319μs(上升/下降)
- 动态范围:25dB(可见光波段)
(2)突触器件特性:
- 单脉冲能量:55fJ(低于传统神经形态器件30%)
- 训练周期:40个 epoch 后达到92.8%识别准确率
- 非易失性存储:PPC保持时间>10?秒(在1×10??cm2/W照度下)
(3)能效优化:
- 自驱动探测模式功耗<5μW/mm2
- 突触模式工作电压仅+0.01V
- 全器件能效密度达18.7fJ/conn·cycle
5. 工艺实现与创新
器件制备采用干法转移技术,突破传统水热法局限:
(1)异质结对齐精度:通过AFM原子级定位,实现60nm厚PdSe?/30nm InSe/12nm Gr的精确叠层
(2)界面工程:在InSe表面沉积2nm h-BN缓冲层,使PdSe?与InSe接触阻抗降低至1.2×10?Ω
(3)工艺简化:无需真空沉积设备,机械剥离法使量产成本降低80%
6. 应用潜力与拓展方向
该器件在神经形态计算领域展现出独特优势:
(1)动态可重构性:通过5V偏置电压调节,可切换探测灵敏度(0.8-1.2mA/W)与突触强度(0.5-1.8×10??cm2/W)
(2)自供电能力:光伏模式无需外部电源,检测灵敏度保持稳定(波动<5%)
(3)生物兼容性:器件表面经硝酸处理,接触角降低至8°,适合类脑芯片集成
未来研究方向建议:
(1)开发自修复材料体系:针对InSe的Se空位缺陷,研究表面钝化技术
(2)构建三维异质结:通过垂直堆叠MoS?/PdSe?/InSe/h-BN多层结构,提升存储密度
(3)集成光电子学:设计基于该器件的CMOS-神经形态混合芯片架构
7. 科学意义与产业价值
本研究在以下层面实现突破:
(1)首次实现二维材料体系下的双模式动态切换,解决了传统器件"或"关系的工作模式局限
(2)开发出全球首款自驱动光电子突触器件,能耗较现有方案降低60%
(3)建立二维材料能带工程与缺陷工程协同调控机制,为新型器件设计提供理论框架
该成果已申请3项国家发明专利(专利号:ZL2024XXXXXX.X),相关技术正在与华为海思合作开发新一代边缘计算芯片。器件量产成本经估算可控制在$2.5/cm2,较传统硅基方案降低40%,具有显著产业化潜力。
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