具有适当带隙的层状硫属半导体因其可调的传输性质以及在光催化、光电和热电领域的多种应用而受到广泛关注[[1], [2], [3]]。特别是A2B2X6家族(A = Sc, Cr, In, Sb, Bi; B = Si, Ge; X = Se, Te)具有层次化的键合特性和多种元素组合,从而产生了新的物理现象和广泛的应用[[4], [5], [6]]。例如,基于InSiTe3的光电探测器表现出超快的光响应和从紫外(UV)到近红外区域的光谱检测能力[[7]]。二维(2D)半导体In2Ge2Te6预计在整个可见光谱范围内具有优异的光吸收能力和高的光伏转换效率[[8]]。此外,从块状晶体中剥离出的2D In2Ge2Te6纳米片被用作高性能p型场效应晶体管(FET)的通道材料[[9]]。
三元A2B2X6的独特键合特性——特别是强层内键合和弱层间键合——有助于实现内在的低晶格热导率[[10], [11], [12]]。与研究较为深入的A2B2X6型碲化物[[13], [14], [15], [16], [17], [18]]不同,A2B2X6型硒化物的结构和电子性质主要通过理论第一性原理计算进行探索[[19], [20], [21], [22]]。值得注意的是,由于八面体扭曲介导的范德华(vdWs)堆叠,In2Ge2Se6表现出异常低的垂直于平面的热导率[[23]]。此外,多型性作为层状vdWs材料中的一个常见且有趣的现象,代表了具有相同原子配置的层的具体堆叠顺序,如过渡金属硫属化合物中的1T、2T和3R多型[[24], [25], [26]]。不同的堆叠顺序导致不同的对称性和层间耦合,从而影响层状vdWs材料的电子和光学性质[[27], [28], [29]]。然而,关于A2B2X6家族化合物的多型性研究仍然有限[[8,30,31]]。因此,对层状硒化物进行实验研究以了解其微观结构和物理性质至关重要。
在这项工作中,我们成功合成了多晶In2Ge2Se6,这是一种新的层状三元硒化物半导体。通过原子尺度扫描透射电子显微镜(STEM)结合X射线衍射精修方法研究了In2Ge2Se6的微观结构特性,包括晶体结构和层错。电子结构通过第一性原理密度泛函理论(DFT)计算和光谱技术进行了分析。此外,还评估了In2Ge2Se6的传输性质,包括电导率和热导率。