利用X射线干涉技术来确定晶体晶格参数和基本物理常数,以及研究单晶中的结构缺陷,是X射线研究领域中广泛采用的方法之一1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13。已知有多种X射线干涉方法可用于研究晶体缺陷14, 15, 16,这些缺陷通常通过干涉仪中至少有一个晶体的原子平面取向或层间距离的相对差异所产生的莫尔条纹来检测。
X射线干涉仪还能够用于研究外部因素对干涉波穿过晶体部分所引起的结构缺陷17, 18, 19, 20。已经开发出了多种干涉仪配置21, 22, 23,并从中获得了不同的干涉图案并进行了解析。基于X射线干涉的动力学理论,人们已经理论上确定了X射线干涉图案的强度分布。
然而,实验获得的干涉图案的解释并不总是直观或严谨的。实际上,由于影响强度分布的因素众多,且这些因素的综合作用往往难以准确把握(即使单个因素的作用已知),因此不同干涉图案的解释变得复杂。结果,并非所有干涉图案都能被正确解释,有时某个因素的影响会被误归因于另一个因素。
本研究探讨了所有干涉波的数量和性质对干涉图案的影响。之前的研究仅限于入射到分析晶体表面的重叠波数量不超过两个的情况25, 26, 27。
显然,增加重叠波的数量能够丰富干涉图案的信息含量。在这方面,多晶体(四晶体和五晶体)干涉仪对结构扰动更为敏感,因为这类干涉仪产生的干涉图案是由多个沿不同路径传播的波叠加而成的。因此,这些干涉仪得到的干涉图案信息更为丰富,但同时也更难以明确解释。因此,研究干涉波的数量及其与波的先前状态之间的关系至关重要,这有助于准确解析X射线干涉图案(确定变形区域的位置)。本研究的主要目标正是利用四晶体干涉仪来研究由两个或三个波叠加而成的莫尔条纹图案。